色漿砂磨機成功應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，質(zhì)量高，產(chǎn)量高。經(jīng)過數(shù)百年的創(chuàng)新和不懈追求，色漿砂磨機包括間歇間歇過程和循環(huán)過程。磨珠由專利的銷桿轉(zhuǎn)子加速器加速，具有獨特的結(jié)構(gòu)設(shè)計。大流量分離篩筒使珠粒能夠在筒體內(nèi)形成內(nèi)部磨珠路徑，從而確保在短時間內(nèi)收集能量。由于材料的流動，磨球的高速運行削弱了磨球朝向出口方向的軸向運動。

　　色漿砂磨機具有以下特點：

　　1) 從微米到納米不同粘度等級產(chǎn)品的精細分散研磨;

　　2) 對于通道或循環(huán)工藝，小批量為*500 ml

　　3) 工程陶瓷(氧化鋯/碳化硅/特殊耐磨合金鋼)的設(shè)計確保地面產(chǎn)品完全不受金屬污染;

　　4) 整套雙頭機械密封研磨裝置非常容易拆卸，易于單獨清洗和消毒;

　　5) 基于獨特的專利大流量動態(tài)分離器，可獲得**產(chǎn)品——通過馬爾文檢測可獲得窄粒度分布;

　　6) 清洗操作簡單方便;

　　7)過程控制系統(tǒng)確保了設(shè)備運行過程中所有數(shù)據(jù)的讀取和監(jiān)控，也便于將實驗數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為工業(yè)生產(chǎn);

　　8) 獨特的水冷電機和冷卻系統(tǒng)設(shè)計，設(shè)備運行安靜，噪音小于65 dB(A)。

　　色漿砂磨機主要用于要求“零污染”和高硬度的材料的超細粉碎和分散：

　　1) 色漿/濾色器/TFT LCD：R、G、B、Y和BM已成功分散并研磨至納米級。透明度應(yīng)超過90%，粘度應(yīng)控制在5-15 CPS，含水量應(yīng)低于1%。

　　2) 噴墨油墨：顏料噴墨油墨已成功分散并研磨至納米級，粘度控制在5 CPS以下。

　　3) CMP(化學(xué)機械聚合物)漿料：半導(dǎo)體晶片研磨所需的研磨液的粒度已達到納米級，能夠滿足無金屬離子沉淀的要求。

　　4) TiOPc(光學(xué)接觸)：應(yīng)用于涂覆在激光制表機光學(xué)鼓上的光學(xué)導(dǎo)體，該光學(xué)導(dǎo)體已研磨并分散至納米級。

　　5) 納米粉末研磨，如TiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO、粘土、CaCo3等，可以分散并研磨至30nm。

　　6) 納米粉末分散體。例如，將納米粉末分散成聚合物，或?qū)⒓{米粉末添加到塑料、橡膠等中進行分散。